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石金科技告訴你哪些因素影響管式PECVD 鍍膜的均勻性

經過專業人員從鍍膜工藝參數設定、硅片制絨面反射率及石墨舟狀態3 個方面對管式PECVD 鍍膜均勻性進行了研究，結果表明：

      1) 鍍膜過程中適當降低腔體外層壓力，增加內層氮硅比，降低射頻功率對片內或片間均勻性有所改善。實驗過程中，在保證良率的情況下，選擇外層壓力為1700 mTorr、內層氮硅比為4.487、射頻功率為7600 W 時，調節DLV 優化石墨舟各區溫度且定期清理腔體內部碎片可改善鍍膜均勻性。

      2) 在一定范圍內，制絨面反射率增加，膜厚增大，片內均勻性更優。

      3) 新石墨舟鍍膜均勻性明顯優于舊石墨舟；在新石墨舟使用周期內，運行30 次時片間均勻性達到最優。

本文出自深圳市石金科技股份有限公司，公司是集銷售、應用開發，產品加工的石墨專業廠家，專門為模具行業、機械行業、真空熱處理爐、電子半導體及太陽能光伏（石墨舟）產業等提供石墨材料、石墨電極和相關的石墨制品，歡迎致電13662687390